威大活性炭厂推荐电子厂房废气处理用煤质柱状活性炭吸附效果理想：半导体废气处理装置包括：流入废气的废气流入口；连接设置在上述废气流入口并提供空气的空气注入口；连接设置在上述废气流入口并具有吸附处理由流入口流入的废气的吸附层的吸附反应部；连接设置在上述吸附反应部并具有由吸附反应部排出的废气流入并对此进行催化处理的催化剂层的催化反应部；及连接设置在流入到上述催化反应部的废气的流动路径中并提供水的水注入口。根据本发明，可以在８００℃以下去除从半导体制造工序或ＬＣＤ制造工序中产生的废气中所包含的难分解性过氟化物，可以根据催化剂的填充量处理含有大量以及／或者高浓度的过氟化物的废气。

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